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2025年
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第8.5H代卷對卷（Roll to Roll）雙面曝光機的開發(fā)和發(fā)貨開始
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2023年
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東工廠廠房內(nèi)增建東工廠南樓
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2021年
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Desktop Mask Aligner 的開發(fā)以及開始銷售
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2020年
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8英寸晶圓用 新型掩膜對準曝裝置（Mask Aligner）的開發(fā)以及開始銷售
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2019年
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榮獲SCREEN GA2019 Best Supplier Award
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2018年
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LED LAMP HOUSE搭載曝光機開始銷售
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2017年
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將INDEX Technologies Inc. 吸收兼并
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2015年
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東京辦事處 開設
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2014年
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薄膜Roll to Roll雙面曝光裝置的開發(fā)
1μm型無掩膜曝光裝置的開發(fā)
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2013年
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晶片TITLER轉動裝置的開發(fā)并開始供貨
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2012年
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電感線圈用曝光機的開發(fā)以及開始供貨
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2011年
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LLED、LD用Stepper（ 投影曝光裝置） 的開發(fā)
東工廠屋頂上設置太陽能發(fā)電系統(tǒng)
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2010年
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開始研發(fā)和供應新型圖像處理裝置(GA-LITE)
3μm·5μm型無掩膜曝光裝置的開發(fā)
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2009年
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榮獲京都右京稅務署頒發(fā)的優(yōu)良申告法人持續(xù)再表彰獎
取得激光修復裝置的制造?銷售權
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2008年
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研發(fā)MUM曝光裝置,榮獲經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省頒發(fā)的關西領跑者大獎
開始研發(fā)和供應TOUCH PANEL(觸摸屏)用曝光機
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2007年
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研發(fā)三維微細加工(MEMS)用曝光機
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2006年
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以資本金2億4千萬日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南區(qū)合資設立
INDEX Technologies Inc.,開始研發(fā)無掩膜曝光機
KES?環(huán)境管理體系階段2登錄。
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2005年
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在京都市伏見區(qū)橫大路天王后開設橫大路工廠
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2004年
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在東工廠廠區(qū)內(nèi)增設東**工廠(對應大型設備)
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2003年
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在京都南區(qū)久世筑山町445番地2開設久世工廠
開始研發(fā)和供應PWB用Roll to Roll曝光機
開始研發(fā)和供應LED、LD用曝光機
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2002年
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開始研發(fā)和供應有機EL用封止裝置
研發(fā)第5代用2軸步進曝光機
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2001年
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開始研發(fā)和供應有機EL用曝光機
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2000年
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在韓國?臺灣設立服務網(wǎng)點
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1999年
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取得ISO9001認證
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1998年
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開始研發(fā)和供應印刷電路板量產(chǎn)用曝光機
開始研發(fā)和供應直立型步進曝光機
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1997年
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在國內(nèi)**周期間榮獲勞動大臣頒發(fā)的進步獎
榮獲京都右京稅務署頒發(fā)的優(yōu)良申告法人持續(xù)再表彰獎
開始研發(fā)和供應PDP用曝光機
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1996年
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開始供應立式大型基板用近接曝光機
在東工廠1F設置適應大型機的無塵車間
開始啟用公司內(nèi)部LAN(局域網(wǎng))
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1994年
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開始研發(fā)LCD量產(chǎn)用第3期生產(chǎn)線裝置
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1993年
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開始供應基板TITLER
開始供應線幅測量機
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1992年
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舉行創(chuàng)立25周年紀念儀式
榮獲京都右京稅務署長頒發(fā)的優(yōu)良申告法人表彰獎
正式導入CAD
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1991年
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在東工廠2F設置無塵車間
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1990年
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開始供應裝配有變形裝載臺的大型基板用近接曝光機
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1989年
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開始供應裝載有間隙傳感器的非接觸大型基板用近接曝光機
在京都市南區(qū)久世殿城町190番地1新設東工廠
開始供應二維CCD傳感器方式自動對位曝光機
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1988年
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完成間隙傳感器
開始供應混合印刷電路板基板用步進曝光機
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1987年
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舉行創(chuàng)立20周年紀念儀式
在國內(nèi)**周期間榮獲京都勞動標準局長頒發(fā)的進步獎
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1986年
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完成TAB系統(tǒng)用直立型?高性能自動信息處理器
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1985年
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完成二維CCD傳感器方式定位裝置
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1984年
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開始供應LCD彩色濾光片用自動對位曝光機
開始供應裝載有新方式大型光源的曝光機
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1983年
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LCD用曝光機的大型化
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1982年
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舉行創(chuàng)立15周年紀念儀式
開始供應LCD用自動對位曝光機
在總部工廠內(nèi)設置無塵車間
開始供應熱感應打印頭用自動對位曝光機
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1981年
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在京都市西京區(qū)大原野石見町28番地1開設大原野工廠
完成線形傳感器方式自動對位裝置
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1980年
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著手研發(fā)大型掩膜自動制圖機
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1979年
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在總部廠內(nèi)增設南館
在總部工廠內(nèi)導入辦公用電腦,著手推進辦公自動化
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1977年
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開始供應熱感應打印頭用掃描曝光機
開始供應LCD用曝光機
開始供應測試信息處理器
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1976年
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完成新方式光源（橢圓鏡-復眼透鏡方式)
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1975年
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開始供應TAB曝光機
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1974年
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將總部及工廠搬遷到京都府向日市寺戸町久久相1番地
開始供應真空密著式曝光機
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1973年
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開始供應新型精密縮小相機?自動接觸打印機
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1971年
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開始供應熱感應打印頭試制用對位曝光機
資本金增加到5,000萬日元
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1970年
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著手研發(fā)半導體用掩膜自動制圖機等
資本金增加到4,000萬日元
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1969年
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開始供應四筒式全自動縮小多面洗印照相機
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1968年
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開始供應半導體用曝光機械?掩膜制作用機械?二維比較測量儀器
資本金增加到2,500萬日元
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1967年
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以250萬日元的資本金創(chuàng)辦了株式會社大日本科研，總部設立在京都市上京區(qū)五辻通智恵光院西入
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